Россия готовит собственный литограф под техпроцесс 90 нанометров

В России планируют создать собственную литографическую установку для производства микросхем по техпроцессу 90 нанометров. Об этом сообщил заместитель министра промышленности и торговли Василий Шпак на XXI отраслевой научно-технической конференции радиоэлектронной промышленности. Проект рассматривается как один из ключевых шагов к развитию отечественной электронной базы и снижению зависимости от зарубежных технологий в сфере микроэлектроники.

По оценкам экспертов отрасли, разработка литографа такого уровня на базе уже существующей технологической платформы может занять от двух до четырех лет. При этом стоимость проекта оценивается в сотни миллионов долларов. Специалисты отмечают, что основная сложность связана не только с созданием самой установки, но и с обеспечением всей производственной цепочки. Речь идет о доступности высокоточной оптики, фотошаблонов, специальных материалов и подготовке инженерных кадров, способных обслуживать подобные системы.

Техпроцесс 90 нанометров не относится к передовым мировым стандартам, однако остается востребованным в производстве промышленной электроники, телекоммуникационного оборудования, автомобильных систем и ряда военных решений. Эксперты считают, что запуск собственного литографа позволит укрепить технологическую независимость страны и создать основу для дальнейшего развития микроэлектронной отрасли в условиях ограниченного доступа к зарубежным компонентам.